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編號:300263989
詞彙類型:概念
正方位等距投影(技術) azimuthal equidistant projection(technique)
範圍註 :
一種投影方法,通常用來製作地圖,可呈現地球或其他星體表面的一部分。在此種投影圖中,中心點與圖中任何一點連成的直線即表示兩地間最短距離,係依據實際比例呈現。這種投影法常用於製作以特定城市為中心的聯外地圖,可顯示城市到其他點之距離及方向,且需由中心點出發,地圖資訊才會準確。
詞彙 :
正方位等距投影(技術) (
P,
,
U,
繁體中文-偏好,
D,U,U)
等距方位投影(
,
U,
繁體中文-非偏好,
UF,U,U)
cheng fang wei teng chü t'ou ying (
P,
,
U,
韋氏拼音-偏好,
UF,U,U)
zhèng fāng wèi děng jù tóu yǐng (
P,
,
U,
漢語拼音-偏好,
UF,U,U)
zheng fang wei deng ju tou ying (
P,
,
U,
漢語拼音(無聲調)-偏好,
UF,U,U)
azimuthal equidistant projection(technique) (
P,
,
U,
英文-偏好,
D,U,U)
projection, azimuthal equidistant(technique) (
,
U,
英文-非偏好,
UF,U,U)
azimutale equidistante projectie(
P,
,
U,
荷蘭語-偏好,
D,U,U)
proyección azimutal equidistante(
P,
,
U,
西班牙語-偏好,
D,U,U)
azimutal(
,
U,
西班牙語-非偏好,
AD,U,U)
層級架構:
藝術與建築詞典根目錄 ....
活動層面........
過程與技術............
<過程與技術>................
<依特定種類區分之過程與技術>....................
<圖像製作的過程與技術>........................
<透視與明暗技術>............................
投影 (透視與明暗技術)................................
方位投影 (技術)....................................
正方位等距投影 (技術)
其他層級 :
藝術與建築詞典根目錄 ....
活動層面........
過程與技術............
<過程與技術>................
<依特定種類區分之過程與技術>....................
<圖像製作的過程與技術>........................
<透視與明暗技術>............................
投影 (透視與明暗技術)................................
等距投影 (技術)....................................
正方位等距投影 (技術)
[正方位等距投影(技術) azimuthal equidistant projection(technique)(編號300263989)]。《藝術與建築索引典》。http://aat.teldap.tw/AATFullDisplay/300263989(2024/11/22瀏覽)。